绕开ASML光刻机，中国自研“国产新型光刻机”验收成功！
ASML的光刻技术最初被认为是广泛用于制造芯片的，因此在DUV和EUV市场都需求量很大，引起了制造商的狂热。ASML被认为是为半导体制造商提供光刻机还有光刻机相关服务的重要技术。
特温斯坎系列统称是世界上“三最”模型，分别是最准确、最多产和使用最广泛。目前，世界上大多数半导体制造商都是从ASML购买英特尔、三星、海力士、TSMC、SMIC等。
TSMC、三星、英特尔和其他巨头正在排队购买ASML的EUV光刻机，每年产量为40至50台。ASML是人类光刻技术发展的一个缩影，我们可以将ASML描述为一个“儿子”。不幸的是，ASML的EUV光刻机不能消除贸易壁垒和自由运输，而DUV光刻机也成为美国的目标，试图垄断。
在这种情况下，对ASML光刻机以外的程序的研究已经成为许多国家的目标。那么，这些国家有什么样的研究和探索呢？ASML的光刻机技术究竟能走多远？现在让我们来谈谈它。
光刻机是整个人类共同智慧的结晶，它不属于个人，也不属于某一类人。它应该有助于全球产业链中人类科学技术的发展，但也有一些国家对全球化进程产生了阻碍。因此，各国正在探索除ASML光刻机之外的其他解决方案。走大路通往罗马，科技的发展也需要创新，只有创新，才能突破。
根据摩尔定律，一个芯片的晶体管数量能够在两年内增加上一倍，并且价格是原来的一半。这就像芯片会更好，更便宜。但事实确实如此吗？尽管芯片性能仍在改善，但TSMC和三星已经超过了3nm工艺的大批量生产，但价格根本不便宜。
目前，只有苹果公司订购了TSMC 3nm，其他客户都在关注，因为价格既成功又昂贵。想要指望ASML升级光刻机技术让成本降下来也并不容易，专家研究表明，ASML下一代的NA EUV光刻机价格会更贵，大家会更负担不起。
毋庸置疑，各国探索的光刻机方案确实不可能在短期内取代掉ASML光刻机。毕竟ASML已经在该行业中深入研究了几十年，并已将其光刻机产品集成到主要制造商的生产线中，稳步为各种行业生产芯片。
有创新的研究是好的，首先是为了多一个选择的可能性，其次是为了稳定其在摩尔定律极限之前芯片行业的未来逐步发展。那么，备受期待的ASML光刻技术能走多远呢？我们能打破摩尔定律的极限吗？
尽管ASML NA EUV光刻机可以打破摩尔定律，这似乎被限制在2到1纳米，ASML将在那之后实现更大的芯片工艺。ASML光刻技术的发展还需要时间。
首先，我们必须明白，一个芯片是如何诞生的？光刻机在芯片制造过程中到底扮演着什么角色呢？事实上，市场上的大部分芯片都是由砾石转化而成的，而第一代半导体材料几乎都使用硅，而硅是通过高温将普通砾石转化为约99.9%的纯硅。
提取硅之后需要拉动硅以形成硅柱，接着将它们切成硅晶片，按照硅柱的大小，硅晶片通常分为8英寸晶片或英寸晶片。获得晶圆，那么光刻机就需要派上用场了。芯片厂商将通过光刻机在涂有光刻胶的晶圆表面曝光芯片图案。原理类似于照相机的曝光作用。
但是ASML的EUV平版印刷机也很好，它并不是免费提供的。原因大家可想而知，ASML必须遵守市场规则，并且必须销售出一大批DUV光刻机。
在这种情况下，各国开始绕过ASML光刻机，探索其他解决方案。例如，业界把中国自主开发的新型超分辨率光刻机成功接受。
光刻机的波长为365nm，在分辨率衍射方面取得了突破，形成短等离子体，暴露晶片，线宽分辨率最高可达22nm。不管是怎样的光刻机，工艺复杂程度都是非常高的，当初尼康，佳能等老牌光刻机巨头都受困于无法压缩光刻机的波长，芯片制造工艺在一段时间停滞不前。
直到林本健提出了浸没式光刻机技术，可以使ASML创造出更先进更高级的光刻机，并且可以缩短光刻机的波长。ASML之所以能发展到这一步，林本健在其中发挥了不可泯灭的作用。
此后，ASML长期处于得益于西方国家的科研成果。现如今ASML吸取了各国的顶级技术产品的经验到ASML来制造EUV光刻机。从那时起，它已成为半导体产业链金字塔的顶端。
结语
中国国内新型超分辨率光刻机绕过ASML光刻机被成功地接受，证明了除ASML光刻机外还有其他的路径。事实上，日本、美国和其他国家也在致力于其他芯片制造技术。这种创新的研究将使人类芯片工艺丰富多彩，并不断尝试各种可能性，使芯片技术更深入、更广泛。
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